Park NX-Mask

Park NX-Mask是一款用於修復高端EUV光罩的創新型機台。Park NX-Mask 採用最新的原子力顯微鏡技術，配有新一代的光罩修復系統，用於解決隨著器件尺寸縮小和光罩複雜性增加帶來的新式挑戰。從自動缺陷檢測到缺陷修復再到修復驗證的一站式解決方案為您提供了前所未有的修復效率，讓您的研究工作事半功倍。

使用AFM探針安全可靠地修復缺陷

來自EUV光源的錫(Sn)顆粒等碎片可能會落到光罩上並降低其光反射率。Park NX-Mask利用其成熟的納米機械 AFM 技術，以絕對安全可靠的方式發現並去除外來顆粒、修正複雜的圖案缺陷。與傳統的光罩修復系統相比，Park NX-Mask 能在不造成任何損壞或擾亂光罩表面的情況下精準執行修復。